真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜(mo)(mo)工作(zuo)原理是膜(mo)(mo)體(ti)(ti)在高(gao)溫下蒸發(fa)落在工件表面結(jie)晶(jing)。由于空(kong)(kong)氣對蒸發(fa)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)體(ti)(ti)分(fen)(fen)子(zi)會產生阻力造成(cheng)(cheng)碰撞(zhuang)使結(jie)晶(jing)體(ti)(ti)變得(de)粗糙(cao)無光，所以(yi)必(bi)須(xu)在高(gao)真(zhen)空(kong)(kong)下才能使結(jie)晶(jing)體(ti)(ti)細密光亮，果如真(zhen)空(kong)(kong)度不高(gao)結(jie)晶(jing)體(ti)(ti)就會失去光澤結(jie)合力也很差。早期(qi)真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜(mo)(mo)是依靠蒸發(fa)體(ti)(ti)自(zi)然散(san)射(she)(she)，結(jie)合差工效低光澤差。現在加(jia)上(shang)中頻磁控濺(jian)射(she)(she)靶(ba)用磁控射(she)(she)靶(ba)將膜(mo)(mo)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)蒸發(fa)分(fen)(fen)子(zi)在電(dian)場的(de)(de)(de)作(zuo)用下加(jia)速轟擊(ji)靶(ba)材(cai)，濺(jian)射(she)(she)出大量的(de)(de)(de)靶(ba)材(cai)原子(zi)，呈(cheng)中性的(de)(de)(de)靶(ba)原子(zi)(或分(fen)(fen)子(zi))沉積在基片上(shang)成(cheng)(cheng)膜(mo)(mo)，解決了過去自(zi)然蒸發(fa)無法加(jia)工的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)體(ti)(ti)品種，如鍍鈦鍍鋯(gao)等等。
你中(zhong)(zhong)頻設(she)備(bei)必須加冷卻水(shui)，原因(yin)是它的頻率高電(dian)(dian)(dian)流大。電(dian)(dian)(dian)流在(zai)導(dao)(dao)體流動時有一個集(ji)膚(fu)效應(ying)，電(dian)(dian)(dian)荷會聚集(ji)在(zai)電(dian)(dian)(dian)導(dao)(dao)有表面(mian)積，這樣使電(dian)(dian)(dian)導(dao)(dao)發(fa)熱所以采用中(zhong)(zhong)孔管做導(dao)(dao)體中(zhong)(zhong)間加水(shui)冷卻。
(主要是圓柱靶)為(wei)什么也要用水(shui)冷卻?
磁控濺(jian)射(she)靶在發射(she)時會(hui)產生高(gao)溫(wen)會(hui)使射(she)槍變(bian)形(xing)，所以它(ta)(ta)有一(yi)個(ge)水(shui)套來(lai)冷(leng)卻射(she)槍。同時還有一(yi)個(ge)重要原因(yin)磁控濺(jian)射(she)可以被認(ren)為是鍍膜(mo)技術中(zhong)*突出的成就之一(yi)。它(ta)(ta)以濺(jian)射(she)率高(gao)、基(ji)片(pian)溫(wen)升低、膜(mo)-基(ji)結合力(li)好。
從更(geng)深層次研究(jiu)電子在(zai)非均勻電磁(ci)場(chang)中(zhong)的(de)(de)(de)運(yun)動(dong)規(gui)律,探討(tao)了磁(ci)控濺射的(de)(de)(de)更(geng)一般原(yuan)理(li)以及磁(ci)場(chang)的(de)(de)(de)橫(heng)向不均勻性(xing)及對稱(cheng)性(xing)是磁(ci)約束的(de)(de)(de)本質原(yuan)因(yin)。磁(ci)控濺射可(ke)以被認(ren)為是鍍膜技(ji)術中(zhong)*突出(chu)的(de)(de)(de)成就之一。它以濺射率(lv)高(gao)、基(ji)片溫升低、膜-基(ji)結(jie)合(he)力好、裝置性(xing)能穩定。
冷(leng)(leng)水(shui)(shui)機(ji)是一(yi)(yi)種水(shui)(shui)冷(leng)(leng)卻(que)(que)設(she)備，能提(ti)供恒溫、恒流(liu)、恒壓的冷(leng)(leng)卻(que)(que)水(shui)(shui)設(she)備。其工作(zuo)(zuo)原理是先(xian)向機(ji)內水(shui)(shui)箱注入(ru)一(yi)(yi)定量的水(shui)(shui)，通過(guo)制冷(leng)(leng)系統將水(shui)(shui)冷(leng)(leng)卻(que)(que)，再由水(shui)(shui)泵將低溫冷(leng)(leng)卻(que)(que)水(shui)(shui)送入(ru)需冷(leng)(leng)卻(que)(que)的設(she)備，冷(leng)(leng)凍水(shui)(shui)將熱量帶走后溫度升高再回流(liu)到水(shui)(shui)箱，達到冷(leng)(leng)卻(que)(que)的作(zuo)(zuo)用。冷(leng)(leng)卻(que)(que)水(shui)(shui)溫可(ke)根(gen)據(ju)要求自動調節(jie)，長期(qi)使(shi)用可(ke)節(jie)約用水(shui)(shui)。
冷(leng)水機(ji)能控制真(zhen)空鍍膜(mo)機(ji)的(de)溫度，以保證鍍件的(de)高質(zhi)量(liang)。如果(guo)不(bu)配(pei)冷(leng)水機(ji)就不(bu)能使(shi)真(zhen)空鍍膜(mo)機(ji)達到高精度、高效率控制溫度的(de)目的(de)，因為自然水和水塔(ta)散(san)熱都(dou)不(bu)可避免(mian)地受(shou)到自然氣(qi)溫的(de)影(ying)響(xiang)，而且此方式(shi)控制是極不(bu)穩(wen)定的(de)。
冷水(shui)機(ji)具有(you)完全獨立的(de)(de)(de)制(zhi)冷系(xi)統，絕不會受氣溫(wen)及環境的(de)(de)(de)影響，水(shui)溫(wen)在5℃～30℃范圍內調節控制(zhi)，因而可以達到高精度、高效率控制(zhi)溫(wen)度的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)，冷水(shui)機(ji)設有(you)獨立的(de)(de)(de)水(shui)循環系(xi)統。